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青岛晨立电子有限公司

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烧结炉 烧结炉生产厂家 青岛晨立电子有限公司 [2024/11/22 9:42:00]  
1.用途 CLZK-G真空烧结炉是由主机、真空系统、电控系统、水冷系统等组成。 主要用于金属粉末制品、可控硅钼片烧结、陶瓷、硬质合金等的真空...
山东
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高校企业实验室氧化炉 材料烧结退火炉 非标专业定制 [2024/11/22 9:42:00]  
应用领域 广泛用于高校、科研院所、工矿企业做高温烧结、金属退火、化工、冶金、陶瓷、新材料开发有机物质灰化、质量检测之用,也适用于电子、医药、特种材料等生产和实...
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科研院所实验室用真空焊接炉 [2024/11/22 9:42:00]  
用途: 实验室用真空焊接炉特点,高真空,低空洞, 体积小,易操作,维护简单,节能降耗,能满足高质量焊接工艺需求,通过真空焊接技术实现无空洞焊接,该款设...
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RTP真空退火炉、真空合金炉 [2024/11/22 9:42:00]  
RTP管式退火炉、真空合金炉用于先进材料需要在高真空、快速升降温、等条件下进行工艺的非标定制设备,可根据客户不同需求定制。 主要技术参数 ...
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第四代半导体工艺设备 氧化镓退火炉 [2024/11/22 9:42:00]  
用途: 新型的宽禁带半导体材料,氧化镓(Ga2O3)由于自身的优异性能,凭借其比第三代半导体材料SiC和GaN更宽的禁带,在紫外探测、高频功率器件等领域...
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高校、硅材料实验室、微电子专业高温氧化炉 [2024/11/22 9:42:00]  
用途: 主要用于各大高校、硅材料实验室、及微电子专业对半导体6寸及以下硅片的高温扩散、氧化(湿氧)、退火、烧结合金工艺的教学和实验工作。 1.1...
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磁力真空退火炉 磁场真空退火炉 青岛晨立电子有限公司 [2024/11/22 9:42:00]  
用途: 该设备用于半导体芯片生产工艺过程中,在可控磁场中实现真空退火、真空合金、真空晶化等工艺。该系统具有精确的磁场强度和温度控制系统和高真空系统。 ...
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晶圆真空退火炉 真空炉 青岛晨立 [2024/11/22 9:42:00]  
晶圆真空退火炉主要用于半导体晶圆在高真空环境下的低温退火。 尺寸:4-8英寸晶圆 晶圆舟:标准25片 控温精度:±3℃ 升温速率:10℃...
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SIC高温氧化炉-氧化扩散炉-科研电炉 晨立电子 [2024/11/22 9:42:00]  
扩散炉系列设备用途:用于大规模集成电路、太阳能电池片、电力电子、光 电器件、光导纤维等行业的氧化、扩散、烧结、合金等工艺。 设备特点:单元组合方式。根据工艺的不...
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碳化硅氧化炉 真空退火炉 高温扩散炉 青岛晨立电子有限公司 [2024/11/22 9:42:00]  
​主要技术指标: ★可处理硅片尺寸:2—8英寸 ★外型形式:卧式1—4管结构 ★工作温度:200℃—1300℃ ★恒温区长度及精...
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